Ultra High Vacuum Sapphire Viewport
Safyras yra viena iš kiečiausių optinių medžiagų inžinerijos srityse.Skaidrus monokristalinio aliuminio oksido (Al2O3) safyras taip pat pasižymi puikiomis šiluminėmis mechaninėmis savybėmis, palyginti su beveik visomis kitomis langų medžiagomis, naudojamomis HV/UHV apdorojimui.
Apytiksliai 2000 MPa gniuždymo stipris ir iki 400 MPa lenkimo stipris yra tipiškos safyrų mechaninės savybės.Yra žinoma, kad safyro matmenys yra labai kieti ir naudojasi puikiu medžiagos Yang moduliu (-350 GPa), kuris padeda užtikrinti, kad stiklo plokštės įtempių deformacijų santykis būtų idealus dirbant esant trilijonajai slėgiui Atmosferos slėgis.
Aukštos temperatūros vakuuminiam apdorojimui taip pat tinka safyro peržiūros langai.Tokie pritaikymai gali apimti fizinį nusodinimą garais (PVD).Įrodyta, kad stiklas patikimai atlaiko nuolatinę 400 laipsnių C (752 laipsnių C) temperatūrą, nors ši riba taikoma tik kameros struktūrai.Vien safyras gali atlaikyti iki 1800 laipsnių C (3272 laipsnių F) temperatūrą.
Nepaisant to, yra daug alternatyvių peržiūros srities medžiagų, kurios gali būti naudojamos tokiose srityse kaip slėgis ir terminis apdorojimas.Pagrindinis safyro pranašumas prieš kitus langų tipus yra tai, kad medžiaga puikiai praleidžia šviesą.
Šviesos bangos ilgiams nuo 150 iki 5500 nanometrų (nm) safyro peržiūros sritis yra labai skaidri, apima daugybę ultravioletinių (UV) ir matomų spektrų bei puikiai išplečiama iki artimųjų infraraudonųjų (IR) diapazonų.Užtikrinkite optimalų HV/UHV apdorojimo sąlygų stebėjimą, nereikalaujant papildomos paviršiaus dangos.
Neprilygstamos safyro mechaninės savybės yra labai svarbios norint pasiekti šią puikią perdavimo kokybę, nes prasta paviršiaus apdaila gali labai paveikti bangos ilgio perdavimą, ypač trumpųjų bangų spinduliuotės atveju.
Safyras yra trečia kiečiausia inžinerinė medžiaga mūsų planetoje, užtikrinanti neįtikėtiną atsparumą įbrėžimams ir atsparumą dilimui.Dėl šio kietumo safyro peržiūros sritis išlaiko perdavimo savybes po montavimo, kad būtų galima ilgai naudoti atšiaurioje apdorojimo aplinkoje.
